檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "氮化鎵".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="有機金屬化學氣相沉積"
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本研究利用有機金屬化學氣相沈積方式,以三甲基鎵(TMGa)及氨氣(NH3)分別為其鎵源和氮源合成氮化鎵結構。在一維結構方面,使用鍍上金觸媒的Si(100)、藍寶石單晶及氮化鎵單晶為基材來沈積氮化鎵。…
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本研究選用在低溫即具有分解能力的聯胺系列化合物-二甲基聯胺(DMHy)來取代反應性低的氨氣(NH3)作為氮源先驅物,同時以分解溫度較低之鎵源-三乙基鎵(TEGa),來成長氮化鎵奈米線,期望以TEGa…
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本研究利用有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)系統,將氮源由傳統MOCVD製程中所使用的氨氣(NH3)改為第三丁基聯胺(i-butylhydrazine, TBHy),來與三甲基鎵(trimethyl…
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本研究利用有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)系統,透過「氣-液- 固」機制及使用金當催化劑,成功地在溫度700oC下分別在藍寶石(脉-Al2O3)、矽基板和氮化鎵上成長氮化鎵的奈米線。我們將氮源由…